不同S值磁控阴极溅射沉积Mo薄膜的结构与性能研究

摘要：

在室温下,利用不同磁感应强度相对分布因子S的磁控阴极溅射沉积了金属Mo薄膜.实验研究了磁控阴极S值对放电参数、Mo薄膜的结构、形貌及性能的影响.分别利用XRD,SEM和四探针技术对Mo薄膜的相结构、表面和截面形貌及电阻率进行表征分析.结果表明,随着磁控阴极S值的增加,Mo靶放电电压降低,而放电电流增加；不同S值的磁控阴极沉积的Mo薄膜均呈现多晶结构,且具有柱状生长特征；随着磁控阴极S因子的增加Mo膜的厚度和电导率呈现先增加而后减小的变化规律,电阻率最小可达4.9×10-6Ω·cm.

关键词：磁感应强度分布因子、Mo薄膜、磁控溅射、电阻率

所属期刊栏目：36

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：陕西省自然科学基金资助项目2010JQ6008;陕西省科学研究计划21080209JK608;陕西省重点学科建设专项资金资助项目

在线出版日期：2012-08-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：410-414