氧氮比对真空电弧沉积TiO2-xNx薄膜结构和性能的影响

摘要：

采用真空电弧沉积技术在玻璃上制备了N掺杂TiO2复合薄膜.通过X射线电子能谱(XPS)、X射线衍射(XRO)、紫外可见光谱(UV-Vis)等测试技术研究了沉积过程中氧氮比对TiO2-xNx薄膜结构和性能的影响.实验结果表明,经500℃退火后的TiO2-xNx薄膜均为锐钛矿相,N原子在TiO2网络结构中以取代O原子的形式存在.TiO2-xNx复合薄膜在400～800 nm可见光区的透过率达60%,随着氮含量的增加,吸收边发生红移.在可见光下对酸性品红的降解表明TiO2-xNx薄膜具有可见光活性,随氧氮比的降低可见光催化活性逐渐增强.经自然光照射2 h,不同氧氮比制备的TiO2-xNx薄膜对大肠杆菌、金黄葡萄球菌的杀菌率均达99%以上.

关键词：TiO2-xNx、氧氮比、微观结构、光催化活性、抗菌活性

所属期刊栏目：34

分类号：TF823(有色金属冶炼)

资助基金：国家自然科学基金项目20803014

在线出版日期：2010-09-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：557-562