铝铜合金靶材的微观结构对溅射沉积性能的影响

摘要：

磁控溅射中高沉积速率有利于获得高纯度薄膜,节省镀膜时间;高沉积效率的靶材可制备出更多数月的晶圆.通过建立平面靶的溅射模型研究了Al-Cu合金靶的品粒取向和品粒尺寸对溅射速率、沉积速率和沉积效率的影响.实验结果显示,溅射速率与靶材的原子密排度成正比关系,靶材的原子密排度受品粒取向和晶粒尺寸的影响,有特定的变化范围,因此溅射速率也只在一个范围内变化.沉积速率和沉积效率受靶材表面窄间内原子密排方向分布的影响,原子密排方向分布则由靶材的晶粒取向和晶粒尺寸决定.

关键词：铝铜合金靶材、微观结构、沉积速率、沉积效率

所属期刊栏目：33

分类号：TB304(工程材料学)

资助基金：北京市科技计划项日D0405001040431

在线出版日期：2009-07-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：442-445