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10.3969/j.issn.0258-7076.2007.04.022

退火对锗单晶导电性能的影响

引用
退火工艺对锗单晶的导电性能有很大的影响.退火温度超过550 ℃会导致N型锗单晶电阻率升高,750 ℃以上温度退火甚至会发生N型锗单晶的导电型号变为P型.同时,退火温度超过550 ℃会导致锗单晶电阻率径向分布均匀性变差,这是Cu杂质与晶体缺陷共同作用的结果.

锗单晶、退火、导电型号、电阻率

31

TN213(光电子技术、激光技术)

2007-11-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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511-514

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0258-7076

11-2111/TF

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2007,31(4)

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