Gd2O3-NH4HF2系制备氟化钆机制及工艺研究

摘要：

以氧化钆和氟化氢铵为原料,通过X射线衍射、化学分析和实际观察,确定了反应过程中的产物,研究了该体系在不同条件下的反应规律,制定了新的GdF3制备工艺.常压下,粉状Gd2O3与NH4HF2在100 ℃开始反应,生成GdNH4F4,NH4F,NH3和H2O.224 ℃时GdNH4F4分解为GdF3和NH4F,NH4F在156～430 ℃间挥发和分解.反应过程包括合成、分解和脱铵3个反应环节.真空可以降低每一步反应的起、止温度,特别有利于脱铵反应进行.用氟化氢铵制备氟化钆应采用"常压低温合成-真空中温分解-真空高温脱铵"工艺:即压力为101 kPa,温度为185 ℃合成GdNH4F4;压力小于10.1 kPa,温度为210 ℃分解GdNH4F4;压力小于10.1 kPa,温度为385 ℃脱除NH4F.

关键词：氟化氢铵、氟化钆、制备、工艺

所属期刊栏目：31

分类号：TG146.4(金属学与热处理)

在线出版日期：2007-04-05（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：97-101