10.3969/j.issn.0258-7076.2006.02.012
溅射法镀二氧化钛薄膜靶材及工艺研究进展
介绍了溅射法镀膜的基本原理,阐述了溅射法镀二氧化钛薄膜用靶材及相应溅射镀膜工艺的研究现状.溅射镀TiO2薄膜用靶材主要有金属钛、二氧化钛和"非化学计量"二氧化钛靶材3大类.由于钛的氧化态及靶材导电性不同,它们对溅射工艺(如溅射气氛等)有一定具体的要求,通过对靶材和相应工艺进行分析比较,指出应用"非化学计量"靶材是溅射法制备二氧化钛薄膜技术发展的重要方向.
溅射、靶材、二氧化钛薄膜
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O643.32(物理化学(理论化学)、化学物理学)
国家科技攻关项目2003AA327040
2006-07-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共4页
177-180