压应力作用下Cu-Ta非晶薄膜表面纳米晶化的可能机制

摘要：

用磁控溅射技术制备了Cu-Ta合金非晶薄膜, 并采用扫描电子显微镜研究了压应力导致非晶薄膜表面形变和纳米晶化现象.结果表明: 在纳米压头的作用下, 非晶薄膜表面压痕的锯齿流边沿处形成了纳米级颗粒(纳米晶化)结构, 且压痕外沿的颗粒尺寸大于内沿的颗粒尺寸.导致上述微观结构变化的主要原因可能是非晶自由体积流变膨胀过程中, 压头的压应力使材料内部自由体积发生移动, 在非晶基体中汇集成一些空位或气团, 纳米晶粒在这些空位或气团处形核并长大;当气团积累到一定体积发生爆裂, 导致屈服变形, 纳米晶粒被挤到压痕锯齿流的前沿.

关键词：Cu-Ta非晶薄膜、纳米压痕、纳米晶化

所属期刊栏目：29

分类号：TN65(电子元件、组件)

资助基金：国家自然科学基金G2000067207-1;国家重点基础研究发展计划973计划G2000067207-1

在线出版日期：2005-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：747-751