10.3969/j.issn.0258-7076.2005.03.003
CVD制备Ir/Re复合材料的显微组织和再结晶研究
采用CVD方法制备了Ir/Re复合材料. 研究了Ir层中Ir晶粒的形貌和生长特点, 计算得到Ir晶粒生长动力学方程:(x2-x02)/t=4.31×103 exp(-2.65 eV/kT) (μm2·s-1). 研究了CVD过程中Re层表面晶粒生长和V, W型浸蚀纹的关系. 对靠近Ir层的细晶粒区和Re层中部的柱状晶粒区中Re晶粒的再结晶长大进行了研究, 计算得到柱状晶区中Re晶粒的生长动力学方程:(x2-x02)/t=2.55×103 exp(-1.52eV/kT) (μm2·s-1), 研究了Ir/Re扩散、 Re扩散对细晶区中Re晶粒生长动力学的影响.
CVD、铱、铼、显微组织、再结晶
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TG146.3(金属学与热处理)
云南省自然科学基金1999E0007Z;国家高技术研究发展计划863计划2003AA305770;云南省人才培养基金87
2005-08-25(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共6页
265-270