10.3969/j.issn.0258-7076.2004.01.066
工艺条件对电沉积CoPtW合金成分的影响
报道了以钨酸钠、硫酸钴和二亚硝酸二胺铂为主盐、以柠檬酸盐为络合剂电沉积钴铂钨合金的工艺过程. 研究了镀液中钨盐浓度、络合剂浓度、电流密度、镀液温度等沉积条件对钴铂钨合金成份的影响. 结果表明, 在实验条件下, 镀液中钨盐含量的增加、电流密度的增大和镀液温度的升高都会引起合金镀层中的钨含量增大. 络合剂用量的增加使合金镀层中的钨含量下降, 而使钴和铂的含量增加.
CoPtW、电沉积、沉积条件
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TQ153.2
浙江省自然科学基金502122;浙江省青年科技人才专项基金RC01056
2004-04-30(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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268-270