铍上铝镀层微观结构研究

摘要：

采用磁控溅射离子镀和等离子喷涂方法在Be表面制备铝镀层,并分别用扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱仪(AES)和X射线应力分析仪分析了膜层微结构、表面形貌、膜与基体界面情况以及内应力等.研究表明,Be上磁控溅射离子镀Al时,在膜基界面形成宽度约为 1 μm 的 Be、Al 原子共混区,膜层由柱状晶组成,膜层应力为微压应力.等离子喷涂涂层不如前者致密,界面存在微裂纹,膜层应力为拉应力.

关键词：铍、膜层、微观结构、界面、应力

所属期刊栏目：26

分类号：TG17;TL34(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：277-280