硅单晶片研磨液的研究

摘要：

论述了研磨液在硅单晶片加工中所起的重要作用以及当今国内外研磨液的发展状况,通过实验研究有效地解决了目前研磨液存在的悬浮、金属离子的去除及表面颗粒吸附问题,并对研磨液的污染及其净化处理进行了分析.

关键词：研磨液、悬浮、金属离子、颗粒吸附、表面活性剂

所属期刊栏目：25

分类号：TN305.2(半导体技术)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：431-433