纳米硅薄膜研究的最新进展

摘要：

纳米硅薄膜(nc-Si:H) 是一种新型低维人工半导体材料,它具有新颖的结构特征与独特的物理性质.综合评述了这种材料在制备方法、结构特征、输运性质和发光特性等方面的最新研究进展,并指出了今后的发展方向.

关键词：纳米硅薄膜、制备方法、结构特征、输运性质、光学特性

分类号：TG146(金属学与热处理)

资助基金：中国科学院资助项目;河北省自然科学基金

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共14页

页码：42-55