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10.3969/j.issn.0258-7076.1998.04.008

SOI键合材料的TEM研究

引用
用横断面透射电子显微术 (TEM) 研究了用键合方法获得的SOI材料的界面结构.绝缘层二氧化硅和硅膜的厚度非常均匀, Si膜/SiO2以及SiO2/Si基体的界面平直且结合紧密,在界面上没有观察到缺陷和孔洞.

硅片键合、SOI、界面、微结构

22

O6(化学)

2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

274-276

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稀有金属

0258-7076

11-2111/TF

22

1998,22(4)

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