10.3969/j.issn.0258-7076.1998.04.008
SOI键合材料的TEM研究
用横断面透射电子显微术 (TEM) 研究了用键合方法获得的SOI材料的界面结构.绝缘层二氧化硅和硅膜的厚度非常均匀, Si膜/SiO2以及SiO2/Si基体的界面平直且结合紧密,在界面上没有观察到缺陷和孔洞.
硅片键合、SOI、界面、微结构
22
O6(化学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
274-276
10.3969/j.issn.0258-7076.1998.04.008
硅片键合、SOI、界面、微结构
22
O6(化学)
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
274-276
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn