纳米SiO2的合成及其在潜指印显现中的应用研究进展

摘要：

指印不仅是一类重要的证据,而且被广泛应用于身份识别.传统指印显现材料存在与背景的反差不够、吸附力差、对环境和健康有害等多方面的不足.这限制了其在法庭科学领域中的应用.纳米指印显现材料在荧光性能、吸附能力和分辨率等方面都有明显的优势,近二十年成为指印显现领域的研究热点.由于纳米SiO2在合成、改性以及亲和性等方面具有先天优势,所以基于纳米SiO2的纳米指印显现试剂具有宽广的发展前景.为此,本文梳理了纳米指印技术的发展,介绍了纳米SiO2的合成方法与改性研究,探讨了其在指印显现领域的具体应用,提出了SiO2纳米材料的安全性问题,最终总结了指印技术的现阶段困境与未来展望.

关键词：指印显现、纳米材料、纳米SiO2、表面修饰

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分类号：DF794.1(诉讼法)

资助基金：中央高校基本科研业务经费专项资金20116040;中国政法大学校级科学研究规划项目20116040;"十三五"国家重点研发计划2018YFC0807300

在线出版日期：2019-06-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：201-206