兆声清洗技术与设备

摘要：

@@ 随着半导体工业的迅速发展和器件水平(集成度、线宽)的不断提高,作为贯穿整个半导体器件生产工艺全过程的清洗工艺,其本身也在随着器件对洁净度要求不断提高的基础上而迅速发展着.兆声清洗技术就是在现已广泛应用的湿法清洗基础上发展起来的一种清洗技术.它与传统的湿法工艺相结合,可以有效去除0.2 μ m以下的颗粒,而且还可以大大提高传统工艺的生产效率和降低化学药剂消耗.

机标关键词：兆声清洗、清洗技术、湿法工艺、半导体器件、半导体工业、药剂消耗、湿法清洗、生产效率、生产工艺、清洗工艺、基础、全过程、洁净度、集成度、应用、线宽、颗粒、化学

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2004-08-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共2页

页码：62-63