微电子工艺中的清洗技术
本文指出了清洗工艺在集成电路制程中的重要性,详细介绍了目前广泛采用的几种清洗方法的清洗原理、特点、存在的问题以及发展的方向.
微电子、清洗、表面活性剂、兆声清洗
TN4(微电子学、集成电路(IC))
2004-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
15-19
微电子、清洗、表面活性剂、兆声清洗
TN4(微电子学、集成电路(IC))
2004-08-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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