ULSI硅衬底片清洗技术的分析研究

摘要：

本文阐述了ULSI硅衬底片清洗的重要性,介绍了目前世界上采用的各种清洗方法(湿法、干法、超声、激光等)的概况,并通过理论分析及清洗实验研究找出适用于工业规模应用的硅片清洗液和清洗技术.

关键词：ULSI、衬底单晶片、清洗方法、表面活性剂、兆声清洗

分类号：TN3(半导体技术)

在线出版日期：2004-08-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：4-8