P-ITO膜成膜过程中O2分压对ITO膜质的影响

摘要：

文章研究了在实际生产过程中，真空磁控溅射设备下制备ITO膜时，高温成膜过程中环境中的氧气分压对ITO薄膜的光电特性的影响。P-ITO指的是结晶状态的ITO膜，在高温环境下ITO膜成膜工艺，也就是常说的高温成膜工艺，在成膜过程中结晶，通过调整成膜过程中O2的分压制备所需的ITO膜。

关键词：直流磁控溅射、基板温度、氧气分压、方块电阻、透过率

分类号：TN949.199

在线出版日期：2012-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：42-44