浅析电容屏单层ITO方案

摘要：

文章介绍了真正单层ITO电容屏方案的原理和设计，阐述了该新品种在成本、制造、应用等方面具有不可小觑的优势特点，但是从功能实现方面仍然存在各种局限，以及突破局限所要研究的方向。

关键词：电容屏、单层ITO、优势特点、研究方向

分类号：TN141.9(真空电子技术)

在线出版日期：2012-07-20（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：38-41