a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺研究

摘要：

列举了不同的a-Si TFT-LCD制造工艺中的ITO返修工艺,详细分析了在五次光刻工艺中的电化学腐蚀问题的反应机理,并对各种返修工艺的优点和缺点进行了简要地说明.

关键词：a-Si TFT-LCD制造工艺、电化学腐蚀、反应机理、氧化锡铟、返修工艺

分类号：TN141.9(真空电子技术)

在线出版日期：2006-08-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：24-28