10.16253/j.cnki.37-1226/tq.2016.11.002
工艺参数对磁控溅射WO3薄膜电致变色性能的影响
本文采用磁控溅射法制备了用于电致变色器件的WO3薄膜,用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、紫外-可见分光光度计(UV-Vis)对其物相组成、微观形貌以及电致变色性能进行了表征.结果表明:在溅射压强为2 Pa、氩氧比为60∶20时所制备的WO3薄膜厚度适中,且有利于离子的嵌入/脱出,而以此薄膜制备的电致变色器件光调制范围最大,褪色时间最短,着色效率达82.9 cm2/C.
磁控溅射、WO3薄膜、电致变色器件、氩氧比
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O484(固体物理学)
广东省科技计划2016B090932003
2017-06-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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