高密度ITO靶材烧结方法及发展趋势

摘要：

简要介绍了铟（In）的用途及国内铟产业的现状，对ITO薄膜的特性、应用领域及高密度ITO靶材溅射镀膜的优点进行了描述。重点对高密度ITO靶材的烧结工艺和成形方法的优缺点及发展现状进行了阐述。探讨了高密度ITO靶材生产技术的发展趋势。

关键词：铟(In)、透明导电膜、高密度ITO靶材、烧结方法

分类号：TQ174.758

在线出版日期：2012-04-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：20-23