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10.3969/j.issn.1005-1198.2011.02.005

低介电常数多孔氮化硅陶瓷材料的制备

引用
采用有机泡沫前躯体浸渍工艺制备了低介电、低密度的氮化硅陶瓷。以氮化硅粉体为主要原料,制备粘度和流动性合适的水基料浆,并以软质聚氨酯泡沫塑料为载体,在真空状态下浸渍,然后在氧化气氛下排塑,在氮气气氛下烧结,得到了低介电常数的多孔氮化硅陶瓷材料。所制备的材料性能可达到:容积密度为0.12g/cm3、介电常数为1.15、介电损耗为4×10-4。通过XRD,SEM研究了试样在热处理过程中的物理、化学变化,烧结体的物相组成及其显微结构。

介电常数、多孔陶瓷、氮化硅

32

R28;TN4

2011-12-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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现代技术陶瓷

1005-1198

37-1226/TQ

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2011,32(2)

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