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10.3969/j.issn.1005-1198.2006.02.008

二氧化硅基波导薄膜的制备方法综述

引用
总结了目前制备二氧化硅基波导薄膜的各种制备工艺,包括广泛采用的等离子增强化学气相沉积法(PECVD)、火焰水解法(FHD)、低压化学气相沉积法、溅射法、离子交换法、离子注入法和溶胶-凝胶法等制备方法,并对各种工艺的原理、特点和应用现状进行了详细的介绍

SiO2基波导薄膜、制备方法

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TQ17

2006-08-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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现代技术陶瓷

1005-1198

37-1226/TQ

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2006,27(2)

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