10.3969/j.issn.1005-1198.2006.02.008
二氧化硅基波导薄膜的制备方法综述
总结了目前制备二氧化硅基波导薄膜的各种制备工艺,包括广泛采用的等离子增强化学气相沉积法(PECVD)、火焰水解法(FHD)、低压化学气相沉积法、溅射法、离子交换法、离子注入法和溶胶-凝胶法等制备方法,并对各种工艺的原理、特点和应用现状进行了详细的介绍
SiO2基波导薄膜、制备方法
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TQ17
2006-08-14(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
29-31
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SiO2基波导薄膜、制备方法
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国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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