IrO2/ZnO薄膜接触结构的制备及电学特性研究

摘要：

在氧化锌器件的应用中,高质量的金属/ZnO接触的制备是至关重要的问题.目前,在金属/ZnO接触的研究中,充当电极角色的多为不具有透明性的金属材料,使得氧化锌材料在光电子器件中的应用受到一定的限制.IrO2是一种既透明又导电的金属氧化物,具有较低的电阻率和较好的化学稳定性,其薄膜已被用作底电极和防热扩散层等.因此文中采用脉冲激光沉积方法(PLD)制备了IrO2/ZnO薄膜接触结构,用小角X射线衍射(XRD)对其进行表征,并测量该结构的电学特性.结果表明实验得到了生长良好的IrO2/ZnO薄膜接触结构,室温下为欧姆接触导电特性.

关键词：IrO2、ZnO、薄膜接触结构、脉冲激光沉积、电学特性、X射线衍射

所属期刊栏目：41

分类号：TN244-34(光电子技术、激光技术)

资助基金：吉林省教育厅"十二五"科学技术研究规划项目:IrO2/ZnO接触特性研究2015第282号

在线出版日期：2019-01-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：32-34,38