磁控溅射制备纳米Ni-Al薄膜的表面粗糙度和电阻率的研究

摘要：

研究了在纳米厚度范围内,Ni-Al薄膜的电阻率与表面粗糙度的关系. 利用直流磁控溅射方法,使用高纯度(99.99%)的Ni 、Al靶, 通入Ar气制备了Ni-Al薄膜,薄膜的厚度为15nm～140nm. 在室温下通过直线四探针和原子力显微镜测量了不同厚度Ni-Al薄膜的电阻率和表面粗糙度,结果表明电阻率变化和表面粗糙度成近似线性关系.

关键词：Ni-Al薄膜、磁控溅射、粗糙度、电阻率

所属期刊栏目：23

分类号：O484.1(固体物理学)

在线出版日期：2009-12-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：150-153