用于非球面测试的位相型计算全息图制作

摘要：

本文对计算全息图元件的设计和制作成算法和软件,研究了采用高速电子束直写系统制作大面积、非周期性复杂光刻图形技术,在此工作的基础上,采用湿法腐蚀铬、感应耦合等离子体刻蚀石英玻璃两步图形转移的方案,制作出了图形区直径为64 mm、最外环线条宽度为2.0μm、刻蚀深度为690 nm的位相型计算全息图元件,并对加工结果进行了测量.结果表明,本方案所制作的计算全息图元件具有良好的加工质量,符合应用的需求.

关键词：非球面测试、计算全息图、电子束光刻、湿法腐蚀、感应耦合等离子体刻蚀

分类号：O438.1(光学)

资助基金：国家重点基础研究发展规划资助项目2007CB935302;中国高技术发展研究计划资助项目2006AA03Z355

在线出版日期：2009-05-15（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：7-8,11