多弧离子镀(Ti,Al,Cr)N硬质膜的沉积工艺与力学性能

摘要：

采用多弧离子镀技术并使用合金靶制备(Ti,Al,Cr)N多组元硬质膜.利用扫描电镜、X射线衍射仪对(Ti,Al,Cr)N膜层表面及断面形貌、成分、结构等进行观察测定,系统考察了沉积工艺对(Ti,Al,Cr)N膜层质量、硬度、膜/基结合力的影响,通过与TiN,(Ti,Al)N和(Ti,Cr)N等硬质膜进行比较,发现采用Ti-Al-Cr合金靶所制备的(Ti,Al,Cr)N硬质膜具有更高的硬度和更好的附着力,同时对沉积工艺有较强的适应性.

关键词：(TiAlCr)N硬质膜、多弧离子镀、显微硬度、附着力、合金靶

分类号：TN304.055(半导体技术)

资助基金：辽宁省高等学校优秀人才支持计划资助RC-05-05

在线出版日期：2009-03-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：16-18,34