基于田口方法的合金薄膜铜衬底超精密抛光工艺优化研究

摘要：

为了获得性能优良的电化学沉积合金薄膜,需要精度非常高的合金薄膜铜衬底.以铜衬底表面粗糙度Ra和Rt为评价目标,探讨了基于田口方法的铜衬底抛光工艺参数优化设计方法.在给定工件材料和磨料(种类和粒度)的条件下,加工载荷、磨料浓度和加工速度是影响铜衬底抛光表面质量的主要工艺参数.运用田口方法进行了实验设计,并通过对实验结果的分析,得出了最佳的抛光工艺参数组合,采用该实验条件进行加工获得了非常光滑的铜衬底表面(Ra 6 nm,Rt 60 nm),表明田口方法能够有效的应用于铜衬底抛光工艺参数的优化设计和分析.

关键词：田口方法、铜衬底、抛光、工艺优化

分类号：TG175(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50475119;浙江省教育厅科研计划资助项目20070324;浙江省重中之重学科开放基金资助项目56310202018

在线出版日期：2009-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：58-61