衬底位置对大面积CVD金刚石薄膜质量的影响

摘要：

采用石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)设备制备了大面积金刚石薄膜,结合X射线衍射谱(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和激光喇曼(Raman)谱等实验手段,较系统地研究了衬底位置对金刚石薄膜质量的影响规律.结果表明,在等离子体球内部的空间范围内,距等离子体球中心垂直距离越远衬底上所沉积的金刚石薄膜质量越好;通过调整衬底位置,可明显改善其上不同区域所沉积的金刚石薄膜质量,最后在等离子体球边缘附近可沉积出晶粒均匀一致几乎不舍非晶碳的大面积高质量金刚石薄膜.此研究为进一步改善大面积金刚石薄膜均匀性和薄膜质量提供了一种实用的途径.

关键词：金刚石薄膜、衬底位置、等离子体球

分类号：O484;O59;TN305;TN104(固体物理学)

资助基金：上海市教委教育发展基金资助项目07ZZ95,05EZ53

在线出版日期：2009-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：39-42