热压印技术制作纳米光栅

摘要：

通过分析脱模过程的摩擦力,讨论了模具表面处理工艺与压模质量的关系,给出了降低脱膜过程摩擦力的工艺方法.实验结果表明,用类聚四氟乙烯膜作为脱模剂能大大减小模具表面与聚合物表面的摩擦力.研究了压模、脱模工艺参数对实验结果的影响,基于HEX-02塑铸系统,真空条件下,在压模温度为195℃,模压压强为8 MPa的环境下,利用热压印技术在PMMA薄膜上复制出周期为120 nm的纳米光栅.

关键词：纳米光栅、热压印技术、PMMA

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2009-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：25-26,31