无掩模光刻技术研究

摘要：

介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题,并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析.研究表明,扫描电子束光刻具有极高的分辨率,但是生产效率较低;波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果,在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时,对电子束的低效率将是一种补充,是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术.

关键词：无掩模光刻、扫描电子束光刻、波带片阵列光刻、掩模版

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科基金资助项目60706005,60776029;863计划资助项目2006AA03Z355

在线出版日期：2009-01-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1-3,64