CVD金刚石膜表面图形化加工技术的研究

摘要：

首先用CVD法制备金刚石厚膜,接着在其表面利用氢等离子体辅助刻蚀,然后在铁薄膜的催石墨化作用下,对金刚石膜的表面进行了选择性的刻蚀.结果表明,在氢等离子体的辅助作用下,铁薄膜可以持续对CVD金刚石膜进行刻蚀;如果控制铁薄膜的形状和厚度,可以实现对CVD金刚石膜表面较精确的图形化刻蚀.该技术有望成为一种新的刻蚀金刚石膜的方法.

关键词：金刚石膜、图形化加工、刻蚀、等离子体

分类号：TN(无线电电子学、电信技术)

资助基金：国家自然科学基金资助项目50572075;湖北省教育厅2004年创新团队项目资助;湖北省教育厅资助项目Q20081505

在线出版日期：2008-10-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：25-29