计算机硬盘微晶玻璃基板抛光研究

摘要：

计算机硬盘微晶玻璃基板的微观结构性能与化学成分都不连续,显微硬度非常高(900 kg/mm2～1 000 kg/mm2),难以获得亚纳米级光滑表面.讨论了微晶玻璃基板结构性能、抛光机理、抛光工艺条件等因素对抛光效果的影响.结果表明,硬盘微晶玻璃基板的结晶相颗粒大小、玻璃相与结晶相的比例都会影响抛光表面质量;化学机械抛光引起玻璃相的优先抛除,该作用机理不适宜于微晶玻璃基板抛光.工艺条件中压力对微晶玻璃基板的表面粗糙度影响最大,抛光中需要维持合适的压力.选取合适的抛光条件,最终获得了粗糙度为0.208 nm(AFM:5 μm×5 μm)的光滑表面.

关键词：硬盘微晶玻璃基板、化学机械抛光、纳米金刚石、亚纳米级光滑表面

分类号：TN305.2(半导体技术)

资助基金：科技部院所基金资助项目2004EG113028;湖南省自然科学基金资助项目04JJ3074

在线出版日期：2008-10-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：28-32