期刊专题

高速偏放系统噪声抑制技术的研究

引用
为使亚微米电子束曝光机的高速偏放系统寻址率达到6 MHz,噪声小于200μV的技术指标,从偏转放大器的设计、信号传输、D/A转换和系统的屏蔽、隔离等几方面考虑,对噪声的产生进行分析研究,采取相应的处理措施、实现机制及实验结果,提出了具体的噪声抑制技术解决方法.进而可使整机系统的技术指标得到很好的提高和改进.这项研究对今后该项目的研制有一定的参考意义.

电子束曝光机、偏放系统、噪声抑制、光纤传输

TN305.7(半导体技术)

2008-10-21(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

5-7

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微细加工技术

1003-8213

43-1140/TN

2008,(2)

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