激光聚焦扫描扇区掩模制作光电码盘新方法

摘要：

为了改进光电码盘的制作工艺,提高效率,降低成本,提出了一种光电码盘的光刻方法.通过计算机控制激光聚焦扫描扇区掩模制作来选择扇区掩模的码道,采用光学光刻的方法制作码盘,取消了传统码盘光刻的精缩物镜和穿孔带.同时,扫描光斑远大于直写光斑,大大提高了加工效率.阐述了高斯光斑的腰束半径与扫描步距的关系,分析了扫描场能量分布的不均匀度,并给出了曝光实验的光刻效果.结果表明,该方法能够满足光电码盘的制作要求,成功地取代了光电码盘的传统制作方法,具有很好的工程应用前景.

关键词：光电码盘、扇区掩模、高斯光斑、聚焦扫描

分类号：TN24(光电子技术、激光技术)

在线出版日期：2008-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：8-11