电子束曝光控制软件系统设计与实现

摘要：

电子束曝光系统作为复杂半导体加工设备,需要功能强健的控制软件系统来保证其正常运行.介绍了具有自主版权的EB(electron beam)writer电子束曝光控制软件系统,它由版图绘制模块、对准控制模块和曝光控制模块组成,利用VC++6.0开发环境实现.实验结果表明.该软件系统可实现微光刻及微纳加工版图的绘制编辑和电子束曝光全过程的控制,且具有可扩展性,特别适用于各种由电子显微镜升级改造的电子束曝光系统.

关键词：电子束曝光、控制软件、版图设计、拼接、套刻

分类号：TN305.7;TP319(半导体技术)

在线出版日期：2008-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

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