基于AFM的多图层图形加工

摘要：

基于AFM阳极氧化加工理论,对AFM阳极氧化加工技术在多图层图形结构加工制造中的应用开展研究.提出一种新型的基于标记对准的套刻对准方法,并应用具有高分辨率的游标对图形的套刻对准精度进行直观、可靠的测量.实验结果证明,利用所提出的AFM套刻对准方法,能够在不引入复杂光学对准设备的条件下,实现25 nm左右的套刻对准精度,完成具有多图层的纳米级图形结构制备.

关键词：AFM加工、对准精度、多图层图形结构

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金10427401

在线出版日期：2008-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：26-30