评价任意面型微光学元件制作误差的方法

摘要：

提出一种可用于评价任意面型微光学元件制作误差的方法.利用泽尼克多项式描述微光学元件面型,针对元件检测过程中的旋转对准偏差,给出泽尼克系数随旋转角度的变化关系;以设计面型和实测面型之间的均方根偏差(RMS)为加工误差的评价指标,根据其相对于旋转角度的依赖曲线,最小的RMS即是加工误差.数值模拟结果表明,该方法可以将旋转对准偏差矫正,从而有效地评价了制作误差.该方法可应用于任意面型微光学元件的研制.

关键词：微光学元件、制作误差、泽尼克多项式、任意表面

分类号：O439(光学)

在线出版日期：2008-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：27-29