接近式光刻的角谱法仿真研究

摘要：

在基于UV-LIGA 技术的大高宽比微细结构的加工技术中,接近式紫外光刻工艺会因衍射效应而使掩模图形在复制过程中产生图形失真,从而引起光刻胶结构的形状缺陷.对该衍射光场进行计算机仿真,预测光刻图形误差,可以为误差修正提供理论依据.运用快速傅里叶(FFT)方法对接近式曝光进行角谱计算,研究了FFT相关参数的选择依据和参数范围的确定原则,详细讨论了光刻机的照明机理对参数选择的影响.通过对先刻胶表面和内部的衍射光场分布的仿真计算,表明了该方法既具有好的计算精度,又具有计算速度快的明显优势.给出了与利用瑞利索末菲衍射公式进行的仿真计算的比较,两者的计算精度相差很小,但本方法的计算速度快了几十倍.由此表明,本FFT方法可以为在掩模设计阶段就预修正微结构图形,为获得理想的光刻胶图形的可制造设计(design for manufacture) 的工程实用化提供一种可行的途径.

关键词：紫外曝光、接近式光刻、快速傅里叶变换、衍射仿真

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60473133

在线出版日期：2008-06-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：22-26,46