紫外压印模版的制备

摘要：

概述了紫外压印的原理及其优点,并通过对紫外压印模版特殊性的分析,提出了两种紫外压印模版的制作.用反应离子刻蚀法制作了玻璃模版,用浇灌法制作了聚二甲基硅氧烷(PDMS)模版,最后给出了实验过程和结果.实验表明,用反应离子刻蚀法可以制作出具有100 nm特征尺寸、图形的深度为50 nm的玻璃模版,而且通过控制刻蚀时间可以得到需要的图形深度.用浇灌法可以制作出具有100 nm特征尺寸、图形深度为145 nm的聚合物模版.

关键词：紫外线、压印、模版制作、反应离子刻蚀

所属期刊栏目：2

分类号：TN405(微电子学、集成电路（IC）)

在线出版日期：2007-07-23（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：5-8