基于光刻胶热熔法的全息光栅表面粗糙度平滑处理

摘要：

根据表面热动力学原理提出了一种成本低廉、制作周期短、易于实现的光刻胶热熔法,阐述了光刻胶热熔法的基本原理,探讨了光刻胶热熔对光刻胶光栅表面刻槽形状的影响.实验中,分别对经过和未经过热熔处理的光刻胶光栅做了离子束刻蚀.结果表明,利用表面张力作用可使熔融状态下的光刻胶光栅刻槽表面变得平滑,粗糙度降低,并且成功地在K9玻璃基底上得到了槽形较好的全息光栅.

关键词：全息光栅、光刻胶热熔法、离子束刻蚀、原子力显微镜

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家科技支撑计划重大项目2006BAK03A02;中国科学院知识创新工程项目Q05J03Z

在线出版日期：2007-07-02（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：11-14