期刊专题

光刻机掩模台宏动定位系统的控制器设计

引用
为给步进扫描光刻机的设计研究提供理论指导,解决光刻机掩膜台宏动平台的控制问题,采用直线电机设计了高速、高精密步进扫描光刻机的掩模台模拟宏动定位系统,并建立了整个直线运动平台的数学模型.根据该系统的特点和模型,还设计了一种不完全微分PID+干扰观测器的控制方式.运用MATLAB软件进行仿真,结果表明,在具有相同的扰动下,仅采用普通PID控制,系统跟踪误差在±0.025 mm范围内变化,而采用该控制方式,系统跟踪误差在±0.015 mm的范围内变化,后者比前者具有更好的控制性能,因而可以使系统得到较好的抗干扰能力、跟踪性能和控制效果.

干扰观测器、光刻机、掩模台、控制系统

TH161+.6

国家自然科学基金50390064;上海市科委资助项目

2007-06-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共6页

22-27

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微细加工技术

1003-8213

43-1140/TN

2006,(6)

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