用DMD灰度曝光法产生连续面形微结构

摘要：

利用空间光调制器光强的精确调制作用,把数字微反射镜阵列(DMD)作为灰度图形发生器,经一次曝光及优化显影等后处理过程,可制作出具有连续面形的微光学元件.用上述方法在实验上获得了微透镜阵列,并有较好的连续面形,符合预期效果.研究表明,该方法不仅可快速地实现连续面形微结构的加工,而且大大简化了制作工艺,有助于降低微光学元件的加工成本,适合于微结构的研究性制作或小批量生产,有广泛应用潜力.

关键词：无掩模光刻、数字微反射镜、微透镜、阵列

分类号：TN305(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金60376021;微细加工国家重点实验基金

在线出版日期：2007-06-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：18-21