衍射光学元件在无掩模光刻中的应用

摘要：

描述了波带片/多孔透镜阵列无掩模光刻方法,着重介绍了波带片的几何结构特点和衍射聚焦特性,研究了影响光刻分辨率的因素和使用位相型波带片代替振幅型波带片提高衍射效率的设计方法,讨论了高级衍射焦点对波带片的光刻对比度的影响及消除措施,表明了波带片光刻有光刻对比度和高光刻分辨率受限于最小结构尺寸两个技术难点.对比介绍了多孔透镜的结构和衍射聚焦原理,论述了利用多孔透镜抑制高级衍射焦点和焦平面上次级大的特性,可以提高光刻对比度、提高光刻分辨率、克服波带片受限于最小结构尺寸的缺点.

关键词：无掩模光刻、波带片、多孔透镜、分辨率、光刻对比度

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2007-06-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：18-23