电子束重复增量扫描曝光方式的反应机理研究

摘要：

从高分子辐射化学的角度分析了电子束曝光的实际反应机理,推导得出曝光辐射剂量与辐射降解程度间的关系,提出了重复增量扫描方式的电子束微三维加工方法.通过在SDS-3型电子束曝光机上对正性抗蚀剂PMMA进行曝光实验,显影后得到轮廓清晰的三维结构,验证了该方法的可行性.

关键词：电子束光刻、微三维加工、辐射降解、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家自然科学基金90307003;国家自然科学基金10572078;山东省自然科学基金Y2003G03;山东省科技攻关项目022090105

在线出版日期：2007-06-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：13-17