EUV光刻中激光等离子体光源的发展

摘要：

简述了获得极紫外光源的途径,系统介绍了激光等离子体(LPP)光源的发展历程,对当前Cymer公司研制的极紫外光刻设备所需LPP光源的最新研究进展做了详细阐述,最后对光源的整体发展给予了总结和展望.

关键词：极紫外光刻、激光等离子体、极紫外光功率、碎片污染

分类号：TN305.7(半导体技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划;国家重点基础研究发展计划973计划2003CB716204

在线出版日期：2007-06-18（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共8页

页码：1-7,12