微柱透镜阵列的全息-光刻胶热熔制作技术

摘要：

为改善微柱透镜阵列的制作技术、消除光刻工艺对光刻掩模版的依赖,研究了利用全息-热熔技术制作微柱透镜阵列的新方法,即首先采用了全息技术进行曝光,然后利用光刻胶热熔技术在K9玻璃基底上制作出了面形良好的微柱透镜阵列.实验结果表明,进行全息曝光并显影后,能够在光刻胶表面产生良好的正弦阵列表面结构,之后采用光刻胶热熔技术可将光刻胶的正弦阵列结构转变为微柱透镜阵列,且实验结果良好.

关键词：微柱透镜阵列、全息曝光、光刻胶热熔

分类号：TN305.7(半导体技术)

在线出版日期：2006-12-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：17-20