用于调焦调平测量系统中的硅片表面形貌模型

摘要：

以硅片表面的平整度(flatness)和硅片表面的全场厚度范围(TTV)等参数为基础,建立了硅片表面的理论形貌模型.根据调焦调平测量系统指标等确定了调焦调平测量系统的有效频带,并设计了相应的滤波器.对硅片表面的理论形貌进行滤波后,得到用于调焦调平测量的硅片表面形貌的模型.由于该模型包括硅片表面在一个曝光视场内的模型和全场模型,并以SEMI标准和ITRS预测的相关参数为基础,因此不受实验条件影响,适用范围广,可用于调焦调平测量系统的模拟测试以及相关光刻工艺的分析.

关键词：扫描投影光刻机、调焦调平测量系统、硅片表面形貌、建模

分类号：TP3(计算技术、计算机技术)

资助基金：国家高技术研究发展计划863计划2002AA4Z3000

在线出版日期：2006-12-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：44-48