浸没式ArF光刻系统中光学因素对L形图形的影响

摘要：

利用Prolith 9.0软件计算了浸没式ArF光刻中杂散光、光线偏振态和几何像差对目标线宽为65 nm的L形图形成像质量和光刻性能的影响,研究了杂散光、光线偏振态和几何像差对L形图形成像质量和光刻性能的影响规律.结果表明,杂散光使得L形图形图像对比度降低、线宽减小和图形位置误差增大;像散、慧差和球差可导致成像质量降低、线宽和图形位置误差增大;通过调整光线偏振态,可以提高成像质量、改善光刻性能、抑制L形图形对杂散光和像差的敏感度.

关键词：杂散光、偏振、像差、浸没式光刻、Prolith9.0

分类号：TP3(计算技术、计算机技术)

资助基金：中国科学院"百人计划"20011215;国家重点基础研究发展计划973计划2003CB716204

在线出版日期：2006-12-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：14-17,39